如果把半导体芯片比作一座超精密的微型城市，那么光学显微镜就是工程师们的“巡城警车”——而“明场”和“暗场”，就是这辆警车的两种“探照灯模式”。 今天咱们就用大白话聊聊，这两种模式在芯片工厂里是怎么干活的~ 1、先搞懂：啥是“明场”和“暗场”？ 其实这俩名字特形象，咱们拿看手机屏幕打个比方： • 明场观察就像白天看屏幕，光线从屏幕背后照过来，字和图案因为颜色深、反光弱，清清楚楚显出来——显微镜里，光线从下方直射样品，芯片上的线条、孔洞这些“有颜色、有高低”的地方，会因为挡住光线而形成清晰的影子，一眼就能看到。 • 暗场观察则像晚上关了灯看屏幕，只开旁边的小台灯，屏幕上的划痕、小灰尘会因为反射台灯的光而亮起来，屏幕本身反而暗暗的——显微镜里，光线从样品旁边“打侧光”，芯片表面那些细微的划痕、小坑、凸起，会因为反射侧光而变得亮晶晶，在暗背景里特别扎眼。 2、半导体工厂里，它们各自干啥活？ 芯片这东西，精度是以“微米”甚至“纳米”计算的（1微米=头发丝直径的1/50），哪怕一个小划痕、一个没刻好的线条，都可能让芯片报废。这时候，“明场”和“暗场”就各显神通了—— 明场：看“大结构”，就像给芯片拍“身份证照片” 刚生产出来的芯片，表面有很多像“街道”“楼房”一样的电路图案（比如晶体管、导线）。用明场模式时，光线从底下照上来，这些图案因为材质或高度不同，会呈现出深浅不一的颜色，工程师一眼就能看出： • 线条画直了没？有没有断？ • 该挖的坑（比如接触孔）挖深了吗？大小对不对？ 就像咱们拍身份证，五官、发型这些“大特征”必须清晰，明场就是干这个的，把芯片的“基本长相”看明白。 暗场：找“小瑕疵”，就像给芯片做“皮肤检测” 如果芯片表面有特别细微的“小毛病”——比如生产时不小心划了道细痕、沾了个小灰尘颗粒，明场里可能看不太清（就像白天阳光下，皮肤上的小细纹不明显）。这时候换暗场模式，侧光一打，这些小瑕疵就像黑夜里的萤火虫一样“发光”： • 划痕会变成一条亮线，特别显眼； • 小颗粒会像个小亮点，一眼就能揪出来。 就像用侧光看皮肤，痘印、毛孔都看得清清楚楚，暗场就是芯片的“瑕疵侦探”。 3、为啥非得“明暗搭配”？ 打个比方：检查一块芯片，就像检查一件高级定制的丝绸衣服—— • 明场看“花纹对不对”“针脚直不直”（大结构是否合格）； • 暗场看“有没有勾丝”“有没有小线头”（细微瑕疵是否存在）。 少了哪一步，都可能让“衣服”在穿的时候出问题。半导体芯片更娇气，明暗场一起上，才能既保证“大方向没错”，又不放过“小细节漏洞”。 最后说句大白话 光学显微镜的明场和暗场，就像给工程师装了两双不同的“眼睛”：一双看“清楚的样子”，一双找“隐藏的毛病”。正是这两双眼睛，在芯片从“一块硅片”变成“能干活的芯片”的路上，把好每一道关，让咱们的手机、电脑能稳稳当当工作～ 是不是突然觉得，这些精密仪器也没那么难懂了？其实它们都是工厂里最实在的“找茬小能手”呀！

一、光刻胶检测：检查“印刷模板”质量 光刻胶就像芯片制造中的“印刷模板”，光刻工艺会把电路图案“印”在上面。金相显微镜就像一台“高清检测仪”，专门检查这张“模板”： • 精度检测：芯片上的电路线条比头发丝细上百倍，金相显微镜能放大观察线条是否达到设计要求，帮工程师调整曝光时间、胶层厚度等参数，确保图案精准。 • 瑕疵检查：光刻胶表面不能有小坑、裂痕或毛刺，一旦出现，就会影响后续工艺。金相显微镜能快速发现这些问题，避免造成更大损失。 二、晶圆图形检验：监督“芯片画布”的绘制 晶圆是制造芯片的“画布”，光刻要在上面绘制精细的电路图案。金相显微镜则充当“监工”角色： • 图案校准：通过显微镜观察，对比实际图案和设计图纸，检查电路有没有画歪、画缺，保证每一步光刻都符合标准。 • 多工序监控：光刻后还要经过刻蚀、镀膜等多道工序。金相显微镜会持续跟踪观察，确保每一步操作都不会损坏已绘制好的电路图案。 三、缺陷检测：排除“隐形杀手” 在芯片制造过程中，灰尘、划痕等微小缺陷就像“隐形杀手”，可能导致芯片报废。金相显微镜就是“排雷专家”： • 表面排查：光刻完成后，显微镜能快速发现晶圆表面的灰尘、划痕等缺陷，及时清理或修复，提高芯片良品率。 • 失效分析：当芯片出现故障时，金相显微镜可以深入分析光刻图案，查找是否存在线条断裂、短路等问题，帮助工程师找到故障根源。 四、材料研究：优化“芯片原材料” 晶圆材料的质量直接影响光刻效果。金相显微镜就像“材料质检员”： • 材料评估：通过观察晶圆材料的晶体结构、杂质含量，判断材料是否适合光刻工艺，为工程师选择更优质的原材料提供依据。 • 工艺验证：在研发新的光刻技术或材料时，金相显微镜可以实时观察光刻效果，帮助工程师评估新工艺的可行性，推动芯片制造技术不断进步。 金相显微镜在光刻制程中扮演着至关重要的角色，从光刻胶到晶圆，从表面缺陷到材料特性，它全方位把控着芯片制造的每一个细节，是芯片高质量生产不可或缺的“得力助手”。 企业简介 苏州锐纳微光学有限公司专注于显微自动化及智能精密光学检测领域。 公司以显微光学成像及图像处理算法为核心技术，坚持自主研发，整合光学、机械、电子、软件、算法等多领域优势，形成一体化能力，为用户提供智能化检测解决方案。 公司专注服务于工业领域客户，以市场需求为导向，助力客户升级传统检测装备，根据客户实际情况提供合适且实用的产品以及周到的服务。 未来，公司将依托在显微镜自动化领域多年的积累，逐步发展成为半导体和新能源行业检测设备为核心的综合服务提供商。 企业使命 致力于《以服务为核心，为客户提供解决方案》的经营理念，成功为众多企业、高校科研等提供各种专业服务的光学系统解决方案。

金相显微镜在外延片检测中的核心应用

SEMICON China 2025 半导体行业盛会来袭！ 苏州锐纳微光学携前沿光电子技术亮相N4馆4339展位！ 🌟 现场展示创新方案，揭秘光学智造新势力，诚邀行业伙伴深度交流，共拓合作机遇！ 时间： 2025年3月26-28日 地点： 上海新国际博览中心 展位号: N4馆 N4-4339 公司网址：www.rnw17.com 联系人：何经理：15370043379； 15370043378；

MX51的详细说明 　　产品特性 　　紧凑的设计实现小的占地空间 　　镜臂部分和镜体分开,使高的样品观察成为可能 　　标配158X158mm手动移动载物台(大可用于200mm晶圆检查) 　　选配长工作距离物镜,极大方便磁头检查 　　采用防静电设计,极大方便磁头检查 　　提高系统灵活性和操作舒适性,满足SEMI S2/S8标准 　　光学系统:UIS (无限远矫正) 光学系统MX51 　　显微镜镜体:Z轴同轴粗微调调焦，载物台行程范围:32mm(从焦面上行2mm和下行30mm)行程相同:15mm(配合透射光照明)Z轴微调焦每旋转一周的行程0.1mm(1个单位1μm)调焦机构张力可调有调焦上限位机构MX51 　　照明系统:BX-KMA明视场照明器BX-RLA2明视场/暗视场照明器BX-URA2万能照明器MX51 　　透射照明:明视场MX-TILLK照明灯，配备光纤照明附件(MX-TILLK须与MX-SIC6R2配合使用) 　　OLYMPUS MX51是一款显微镜，采用防静电设计，无限远矫正光学系统。

如何正确使用显微镜，常见的误区有哪些